Chemická syntéza nitridu boru v plynné fázi

V roce 1979 Sokolowski úspěšně použil technologii pulzního plazmatu k přípravě kubických nitridů boru (CBN) při nízké teplotě a nízkém tlaku. Použité zařízení je jednoduché a proces je snadno realizovatelný, takže bylo vyvinuto rychle. Objevila se řada metod depozice par. Tradičně se to týká hlavně tepelné chemické depozice par. Experimentální zařízení se obecně skládá z tepelně odolné křemenné trubice a topného zařízení. Substrát lze ohřívat topnou pecí (CVD s horkou stěnou) nebo vysokofrekvenčním indukčním ohřevem (CVD se studenou stěnou). Reakční plyn se rozkládá na povrchu vysokoteplotního substrátu a současně dochází k chemické reakci za vzniku filmu. Reakčním plynem je směsný plyn BCI₃ nebo B₂H₄a NH₃.